集成电路布图设计登记简介
        为保护集成电路布图设计专有权，中国国务院于2001年4月2日通过了《集成电路布图设计保护条例》，并于2001年10月1日起施行。
        本条例将集成电路布图设计列为保护对象，具体是指集成电路中至少有一个是有源元件的两个以上元件和部分或者全部互连线路的三维配置，或者为制造集成电路而准备的上述三维配置。
        布图设计专有权的保护期为10年,自布图设计登记申请之日或者在世界任何地方首次投入商业利用之日起计算,以较前日期为准。但是,无论是否登记或者投入商业利用,布图设计自创作完成之日起15年后,不再受本条例保护。
        布图设计专有权经国务院知识产权行政部门登记产生。未经登记的布图设计不受本条例保护。布图设计自其在世界任何地方首次商业利用之日起2年内,未向国务院知识产权行政部门提出登记申请的,国务院知识产权行政部门不再予以登记。
        为了在中国取得集成电路布图设计登记，外国申请人必须委托一家中国代理机构向中国国务院知识产权行政部门提出登记申请。我们公司可以代表中国或外国申请人办理集成电路布图设计登记申请等事宜。

1、申请阶段：
（1）布图设计登记申请表；
（2）布图设计的复制件或者图样；
（3）布图设计已投入商业利用的,提交含有该布图设计的集成电路样品；
（4）国务院知识产权行政部门规定的其他材料。
2、审查阶段：
布图设计登记申请经初步审查,未发现驳回理由的,由国务院知识产权行政部门予以登记,发给登记证明文件,并予以公告。
3、后续程序：
布图设计登记申请人对国务院知识产权行政部门驳回其登记申请的决定不服的,可以自收到通知之日起3个月内,向国务院知识产权行政部门请求复审。国务院知识产权行政部门复审后,作出决定,并通知布图设计登记申请人。布图设计登记申请人对国务院知识产权行政部门的复审决定仍不服的,可以自收到通知之日起3个月内向人民法院起诉。
布图设计获准登记后,国务院知识产权行政部门发现该登记不符合本条例规定的,应当予以撤销,通知布图设计权利人,并予以公告。布图设计权利人对国务院知识产权行政部门撤销布图设计登记的决定不服的,可以自收到通知之日起3个月内向人民法院起诉。